Предпроизводственный анализ в технологии тонкопленочных оптических покрытий

Автор: Тропин Алексей Николаевич

Журнал: Научное приборостроение @nauchnoe-priborostroenie

Рубрика: Физика приборостроения

Статья в выпуске: 2 т.27, 2017 года.

Бесплатный доступ

При изготовлении тонкопленочных оптических покрытий использование достоверного и надежного метода контроля осаждения пленок является ключевым инструментом для их успешной реализации. Выбор наилучшей стратегии контроля возможно осуществить с использованием так называемого предпроизводственного анализа. На примере структур узкополосного и коротковолнового блокирующего фильтров для инфракрасного диапазона спектра продемонстрированы возможности указанного подхода. Развитая в работе процедура для определения наиболее подходящей стратегии контроля позволит получать воспроизводимые результаты в технологических процессах вакуумного осаждения многослойных оптических покрытий.

Еще

Оптика тонких пленок, многослойное тонкопленочное покрытие, спектральная система контроля, вычислительный эксперимент, предпроизводственный анализ

Короткий адрес: https://sciup.org/14265071

IDR: 14265071   |   DOI: 10.18358/np-27-2-i4146

Список литературы Предпроизводственный анализ в технологии тонкопленочных оптических покрытий

  • Macleod H. Monitoring of optical coating//Appl. Opt. 1981. Vol. 20. P. 82-89 DOI: 10.1364/AO.20.000082
  • Willey R.R. Practical production of optical thin films. Willey Optical Consultants, Charlevoix, USA, 2008. 419 p.
  • Котликов Е.Н., Новикова Ю.А., Тропин А.Н. Проектирование и изготовление интерференционных покрытий. СПб.: ГУАП, 2016. 288 с.
  • Vidal B., Fornier A., Pelletier E. Optical monitoring of nonquarterwave mutilayer filters//Appl. Opt. 1978. Vol. 17. P. 1038-1047 DOI: 10.1364/AO.17.001038
  • Vidal B., Fornier A., Pelletier E. Wideband optical monitoring of nonquarterwave mutilayer filters//Appl. Opt. 1979. Vol. 18. P. 3851-3856 DOI: 10.1364/AO.18.003851
  • Ristau D., Ehlers H., Gross T., Lappschies M. Optical broadband monitoring of conventional and ion processes//Appl. Opt. 2006. Vol. 45. P. 1495-1501 DOI: 10.1364/AO.45.001495
  • Zhupanov V.G., Klyuev E.V., Alekseev S.V., Kozlov I.V., Trubetskov M.K., Kokarev M.A., Tikhonravov A.V. Indirect broadband optical monitoring with multiple witness substrates//Appl. Opt. 2009. Vol. 48. P. 2315-2320 DOI: 10.1364/AO.48.002315
  • Проспект фирмы "ЭссентОптикс". URL: http://www.essentoptics.com/rus/products.
  • Tikhonravov A. Virtual Deposition Plant//Proc. of SPIE. 2005. Vol. 5870. P. 1-13 DOI: 10.1117/12.617043
  • Котликов Е.Н., Кузнецов Ю.А., Лавровская Н.П., Тропин А.Н. Оптические пленкообразующие материалы для инфракрасной области спектра//Научное приборостроение. 2008. Т. 18, № 3. С. 32-36. URL: http://iairas.ru/mag/2008/full3/Art3.pdf.
  • Котликов Е.Н., Иванов В.А., Прокашев В.Н., Тропин А.Н. Исследование оптических констант пленок германия в средней ИК области спектра//Оптика и спектроскопия. 2010. Т. 108, № 6. С. 827-830.
  • Willey R.R. Simulation of errors in the monitoring of narrow bandpass filters//Appl. Opt. 2002. Vol. 41. P. 3193-3195 DOI: 10.1364/AO.41.003193
  • Zoller A., Boos M., Goetzelmann R., Hagedorn H., Romanov B., Viet M. Accuracy and error compensation with direct monochromatic monitoring//OSA Technical Digest (online) (Optical Society of America, 2013). Paper WB.5 DOI: 10.1364/OIC.2013.WB.5
  • Котликов Е.Н., Иванов В.А., Моцарь Е.В., Новикова Ю.А., Тропин А.Н. Анализ устойчивости спектральных характеристик многослойных оптических покрытий//Оптика и спектроскопия. 2011. Т. 111, № 3. С. 525-531.
Еще
Статья научная