Создание криволинейных дифракционных решеток для ультрафиолетового диапазона

Автор: Нестеренко Д.В., Полетаев С.Д., Моисеев О.Ю., Якуненкова Д.М., Волков А.В., Скиданов Р.В.

Журнал: Известия Самарского научного центра Российской академии наук @izvestiya-ssc

Статья в выпуске: 4-1 т.13, 2011 года.

Бесплатный доступ

Описана технология изготовления криволинейных дифракционных решеток для ультрафиолетового диапазона света с характерными размерами структур порядка 200 нм на подложке из плавленого кварца с применением электронно-лучевой литографии и ионно реактивного травления.

Электронно-лучевая литография, ионно-реактивное травление, криволинейная дифракционная решетка, кварц, уф диапазон

Короткий адрес: https://sciup.org/148200124

IDR: 148200124

Список литературы Создание криволинейных дифракционных решеток для ультрафиолетового диапазона

Бредихин В.И., Буренина В.Н., Веревкин Ю.К. [и др.] Наноразмерная интерференционная литография с импульсным УФ лазером//Журнал технической физики. 2004. Т. 74. Вып. 9. С. 86-90.
Nakamoto T., Yamaguchi K., Abraha P.A. [and others] Manufacturing of three dimensional micro parts by UV laser induced polymerization//J. Micromech. Microeng. 1996. Vol. 6. Р. 240-253.
Marge M., Bruynooghe S., Clube F. [and others] 120 nm lithography using off axis TIR holography and 364 nm exposure wavelength//Microelectronic Engineering. 2001. Vol. 57. Р. 59-63.
Kondo T., Juodkazis S., Mizeikis V. [and others] Fabrication of three dimensional periodic microstructures in photoresist SU 8 by phase controlled holographic lithography//New Journal of Physics. 2006. Vol. 8. Р. 250-256.
Huang C.J., Zhu X.P., Li C. [and others] Nanofabrication of grid patterned substrate by holographic lithography//Journal of Crystal Growth. 2002. V. 236. Р. 141-144.
Min'ko V. I., Indutnyy I.Z., Shepeliavyi P.E. [and others] Application Of Amorphous Chalcogenide Films For Recording Of High Frequency Phase Relief Diffraction Gratings//Journal of Optoelectronics and Advanced Materials. 2005. Vol. 7. No. 3. P. 1429-1432.
Kang D.J., Kim J.K., Bae B.S. Simple fabrication of diffraction gratings by two beam interference method in highly photosensitive hybrid sol gel films//Opt. Exp. 2004. Vol. 12. No. 17. P. 3947.
Злобин В.А. Электронно-лучевая литография массивов наноструктур//Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 2006. № 12. С. 59-63.
Потапкин О.Д., Трошин Б.В. Проекционная электронно-лучевая литография для нанотехнологий//Известия Российской академии наук. Серия физическая. 2010. Т. 74. № 7. С. 1056-1060.
Стефанович Г.Б., Пергамент А.Л., Величко А.А. [и др.] Аморфный оксид ванадия резист для нанолитографии//Вестник Воронежского государственного технического университета. 2009. Т. 5. № 11. С. 33-38.
Казанский Н.Л. Исследовательский комплекс для решения задач компьютерной оптики//Компьютерная оптика. 2006. № 29. С. 58-77.
Сережников С.Ю. Подготовка, обработка и визуализация данных для изготовления голограмм на электронно-лучевой установке ZBA 21/Вычислительные методы и программирование: новые вычислительные технологии. 2002. Т. 3. № 1. С. 110-115.
Gürsel S.A., Padeste C., Solak H.H. [and others] Microstructured polymer films by X ray lithographic exposure and grafting//Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms. 2005. Vol. 236. № 1 4. P. 449-455.
Mopo У. Микролитография. В 2 х ч. Ч. 2: Пер. с англ. М.: Мир, 1990. 632 с.
Волков А.В., Казанский Н.Л., Костюк Г.Ф. [и др.] Формирование микрорельефа ДОЭ с использованием халькогенидных стеклообразных полупроводников//Компьютерная оптика. 1999. № 19. С. 129-131.
Волков А.В., Казанский Н.Л., Сойфер В.А. [и др.] Технология изготовления непрерывного микрорельефа дифракционных оптических элементов//Компьютерная оптика. 1997. № 17. С. 91-93.
Волков А.В., Казанский Н.Л., Рыбаков О.Е. Исследование технологии плазменного травления для получения многоуровневых дифракционных оптических элементов//Компьютерная оптика. 1998. № 18. С. 130-133.
Волков А.В., Казанский Н.Л., Рыбаков О.Е. Разработка технологии получения дифракционного оптического элемента с субмикронными размерами рельефа в кремниевой пластине//Компьютерная оптика. 1998. № 18. С. 133-138.
Volkov A.V., Kazanskiy N.L., Moiseev O.Yu. [and others] A Method for the Diffractive Microrelief Forming Using the Layered Photoresist Growth//Optics and Lasers in Engineering. 1998. Vol. 29. № 4 5. P. 281-288.
Волков А.В. [и др.] Метод формирования дифракционного микрорельефа на основе послойного наращивания фоторезиста//Компьютерная оптика. 1996. № 16. C. 12-14.
Волков А.В., Казанский Н.Л., Успленьев Г.В. Изготовление и экспериментальное исследование фокусаторов в кольцо и в две точки//Компьютерная оптика. 1999. № 19. C. 132-136.
Технология тонких пленок/под ред. Л. Майссела и Р. Глэнга. Пер. с англ. под ред. М. И. Елинсона, Г.Г. Смолко. М.: Сов. радио, 1977. Том 1. 664 с.
Волков А.В., Казанский Н.Л., Моисеев О.Ю. Исследование процессов нанесения и травления фоторезиста с целью повышения точности формирования микрорельефа широкоапертурных ДОЭ//Компьютерная оптика. 1999. № 19. C. 143-146.
Методы компьютерной оптики/под ред. В.А. Сойфера. М.: Физматлит, 2000. 688 с.
Volkov A.V., Kazansky N.L., Kostyuk G.F. [and others] Dry Etching of Polycrystalline Diamond Films//Optical Memory & Neural Networks (Information Optics). 2002. Vol. 11. № 2. P. 131-137.
Pavelyev V.S., Borodin S.A., Kazanskiy N.L. [and others] Formation of diffractive microrelief on diamond film surface//Optics & Laser Technology. 2007. Vol. 39. № 6. P. 1234-1238.

Еще

Статья научная