Осаждение тонких металлических пленок на поверхность микрочастиц в плазме магнетронного ВЧ-разряда
Автор: Паль Александр Фридрихович, Рудавец Александр Григорьевич, Рябинкин Алексей Николаевич, Серов Александр Олегович
Журнал: Ученые записки Петрозаводского государственного университета @uchzap-petrsu
Рубрика: Физико-математические науки
Статья в выпуске: 8 (113), 2010 года.
Бесплатный доступ
Пылевая плазма, магнетронное распыление, покрытие, порошок, термализация атомов, ван-дер-ваальсовское взаимодействие
Короткий адрес: https://sciup.org/14749802
IDR: 14749802
Список литературы Осаждение тонких металлических пленок на поверхность микрочастиц в плазме магнетронного ВЧ-разряда
- David T. et al. Magnetic interactions of cold atoms with anisotropic conductors//The European Physical Journal D: Atomic, Molecular, Optical and Plasma Physics. 2008. Vol. 48(3). Р. 321-332.
- Chujiang C. et al. A comparison of two methods for metallizing fly-ash cenosphere particles: electroless plating and magnetron sputtering//Journal of Physics D: Applied Physics. 2007. Vol. 40. Р. 6026-6023.
- Flanagan T. M., Goree J. Dust release from surfaces exposed to plasma//Physics of Plasmas. 2006. Vol. 13. Р. 123504-1-123504-11.
- Han J. G. Recent progress in thin film processing by magnetron sputtering with plasma diagnostics//Journal of Physics D: Applied Physics. 2009. Vol. 42(4). Р. 043001-1-043001-16.
- Huang F. Y., Hwang H. H., Kushner M. J. A model for transport and agglomeration of particles in reactive ion etching plasma reactors//Journal of Vacuum Science & Technology A. 1996. Vol. 14(2). Р. 562-566.
- Ivanov A. et al. DCM Production in a Dusty-Plasma Trap//Plasma Processes and Polymers/R. d'Agostino et al., Editors. Wiley-VCH Verlag GmbH & Co. KgaA, 2005. Р. 455-464.
- Kaplan I. G. Intermolecular Interactions: Physical Picture, Computational Methods and Model Potentials. John Wiley & Sons, Ltd., 2006. 380 р.
- Kersten H. et al. Examples for application and diagnostics in plasma-powder interaction//New Journal of Physics. 2003. Vol. 5. Р. 93.1-93.15.
- Larsson M., Dinyari K. N., Wang H. Composite Optical Microcavity of Diamond Nanopillar and Silica Microsphere//Nano Letters. 2009. Vol. 9(4). Р. 1447-1450.
- Matherson K. J. et al. Measurement of low-energy total absolute atomic collision cross sections with the metastable 3P2 state of neon using a magneto-optical trap//Physical Review A. 2008. Vol. 78. Р. 042712-1-042712-5.
- Nitter T. Levitation of dust in rf and dc glow discharges//Plasma Sources Science & Technology. 1996. Vol. 5(1). Р. 93-111.
- Ohring M. Materials Science of Thin Films: Deposition and Structure. Academic Press Inc., 2001. 794 р.
- Pal A. F. et al. Rotation of Dusty Structures in RF Magnetron Discharge//18th Europhysics Conference on the Atomic and Molecular Physics of Ionized GasesLecce, Italy, 2006. Р. 203-204.
- Park H. -G., et al. Electrically Driven Single-Cell Photonic Crystal Laser//Science. 2004. Vol. 305(5689). Р. 1444-1447.
- Paul A., Wingbermuhle J. Surface morphology for ion-beam sputtered Al layer with varying sputtering conditions//Applied surface science. 2006. Vol. 252(23). Р. 8151-8155.
- Pillai S. et al. Surface plasmon enhanced silicon solar cells//Journal of Applied Physics. 2007. Vol. 101(9). Р. 093105-1-093105-8.
- Prodan E. et al. A Hybridization Model for the Plasmon Response of Complex Nanostructures//Science. 2003. Vol. 302(5644). Р. 419-422.
- Rossnagel S. M., Kaufman H. R. Induced drift currents in circular planar magnetrons//Journal of Vacuum Science & Technology A. 1987. Vol. 5(1). Р. 88-91.
- Rossnagel S. M., Kuan T. S. Alteration of Cu conductivity in the size effect regime//Journal of Vacuum Science & Technology B. 2004. Vol. 22(1). Р. 240-247.
- Shen Y., Bel Bruno J. J. Studies of Neutral and Ionic CuAr and CuKr van der Waals Complexes//Journal of Physical
- Chemistry A. 2005. Vol. 109(44). Р. 10077-10083.
- Springer Handbooks of Atomic, Molecular, and Optical Physics/Еd. G. W. F. Drake. Springer Science+Business Media, 2006. 1506 р.
- Swann S. Magnetron sputtering//Physics in Technology. 1988. Vol. 19. Р. 67-75.
- Thieme G. et al. Whispering Gallery Mode Spectroscopy as a Diagnostic for Dusty Plasmas//AIP Conference Proceedings. 2008. Vol. 1041. Р. 281-282.
- Vernooy D. W. et al. Cavity QED with high-Q whispering gallery modes//Physical Review A. 1998. Vol. 57(4). Р. R2293.
- Vieiraa M. T. et al. Surface modification of stainless steel powders for microfabrication//Journal of Materials Processing Technology. 2008. Vol. 201(1-3). Р. 651-656.
- Wasa K., Kitabatake M., Adachi H. Thin film materials technology: sputtering of compound materials. William Andrew, Inc. and Springer-Verlag GmbH & Co. KG, 2004. 518 р.
- Watanabe Y. Formation and behaviour of nano/micro-particles in low pressure plasmas//Journal of Physics D: Applied Physics. 2006. Vol. 39(19). Р. R329-361.
Статья
