Исследование рельефа плёночных дифракционных оптических элементов

Исследование рельефа плёночных дифракционных оптических элементов

Автор: Каминская Татьяна Петровна, Попов Владимир Викторович, Салецкий Александр Михайлович

Журнал: Компьютерная оптика @computer-optics

Рубрика: Дифракционная оптика, оптические технологии

Статья в выпуске: 2 т.40, 2016 года.

Бесплатный доступ

Методом сканирующей зондовой микроскопии исследованы параметры рельефа плёночных отражающих дифракционных оптических элементов, изготовленных по разным технологиям: традиционной лазерной записи радужных голограмм и технологиям «Dot matrix», «Kinemax» и электронно-лучевой литографии. Проведена оценка влияния технологии на параметры рельефа ДОЭ. Измерения показали, что в большинстве технологий высота рельефа может отличаться от оптимальной более чем на 100 %, и удовлетворительный визуальный эффект достигается только благодаря тому, что присутствуют решетки с разными высотой и профилем и результат усредняется. Прямые измерения рельефа выявляют причину низкой дифракционной эффективности и тем самым показывают путь к ее увеличению.

Еще

Дифракционные оптические элементы, атомно-силовая микроскопия, дифракционная эффективность, параметры рельефа

Короткий адрес: https://sciup.org/14059456

IDR: 14059456   |   DOI: 10.18287/2412-6179-2016-40-2-215-224

Список литературы Исследование рельефа плёночных дифракционных оптических элементов

  • Хомутов, В.Н. Измерение дифракционной эффективности ДОЭ по многим порядкам дифракции/В.Н. Хомутов, А.Г. Полещук, В.В. Черкашин//Компьютерная оптика. -2011. -Т. 35, № 2. -С. 196-202.
  • Белоусов, Д.Ф. Контроль пространственного распределения оптического излучения, рассеянного дифракционной структурой/Д.Ф. Белоусов, А.Г. Полещук, В.Н. Хомутов//Компьютерная оптика. -2015. -Т. 39, № 5. -С. 678-686. -DOI: DOI: 10.18287/0134-2452-2015-39-5-678-686
  • Колючкин, В.В. Метод когерентного контроля глубины поверхностного микрорельефа голограммных и дифракционных оптических элементов/В.В. Колючкин, Е.Ю. Злюказов, С.Б. Одиноков, В.Е. Талалаев, И.К. Цыганов//Компьютерная оптика. -2015. -Т. 39, № 4. -С. 515-520. -DOI: DOI: 10.18287/0134-2452-2015-39-4-515-520
  • Карпеев, С.В. Исследование дифракционной решётки на выпуклой поверхности как диспергирующего элемента/С.В. Карпеев, С.Н. Хонина, С.И. Харитонов//Компьютерная оптика. -2015. -Т. 39, № 2. -С. 211-217.
  • Collier, R.J. Optical Holography/R.J. Collie, C.B. Burckhardt, L.H. Lin//New York: Academic Press, 1971. -P. 170-174.
  • Loewen, E.G. Diffraction gratings and applications/E.G. Loewen, E. Popov//New York: Taylor and Francis Group, 1997. -601 p.
  • Novikova, T. Metrology of replicated diffractive optics with Mueller polarimetry in conical diffraction/T. Novikova, A. De Martino, P. Bulkin, Q. Nguyen, B. Drévillon, V. Popov, A. Cumakov//Optics Express. -2007. -Vol. 15, № 5. -P. 2033-2046.
  • Nakahara, S. Surface Properties of Holograms Studied by Atomic Force Microscopy/Sumio Nakahara, Takeyoshi Fujita//Proceedings of SPIE. -1995. -Vol. 2333. -P. 49-52.
  • Leech, P.W. Scanning probe microscope analysis of microstructures in optically variable devices/P.W. Leech, B.A. Sexton, R.J. Marnock//Microelectronic Engineering. -2002. -Vol. 60. -P. 339-346.
  • Savić Šević, S. Biopolymer holographic diffraction gratings/S. Savić Šević, D. Pantelic//Optical Materials. -2008. -Vol. 30, Issue 7. -P. 1205-1207.
  • Leech, P.W. Printing via hot embossing of optically variable images in thermoplastic acrylic lacquer/P.W. Leech, R.A. Lee, T.J. Davis//Microelectronic Engineering. -2006. -Vol. 83. -P. 1961-1965.
  • Savić Šević, S. Relief hologram replication using a dental composite as an embossing tool/S. Savić Šević, D. Pantelić//Optics Express. -2005. -Vol. 13, Issue 7. -P. 2747-2754.
  • Picot, O.T. Manufacturing of Surface Relief Structures in Moving Substrates Using Photoembossing and Pulsed-Interference Holography/O.T. Picot, R. Alcala, C. Sanchez, M. Dai, N.F. Hughes-Brittain, D.J. Broer, T. Peijs, C.W.M. Bastiaansen//Macromolecular Materials and Engineering. -2013. -Vol. 298(1) -P. 33-37. - DOI: 10.1002/mame.201100433
  • Tamulevicius, S. Optical characterization of diffractive optical elements replicated in polymers/S. Tamulevicius, A. Guobiene, G. Janusas, A. Palevicius, V. Ostasevicius, M. Andrulevicius//Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS. -2006. -Vol. 5, №1. -013004.
  • Zhurminsky, I. Effect of replication on the groove shape of a sinusoidal holographic grating/I. Zhurminsky, R. Hauser//Optical Engineering. -2007. -Vol. 46(6). -063003.
  • Sexton, B.A. Characterization of High Resolution Resists and Metal Shims by Scanning Probe Microscopy/B.A. Sexton, R.J. Marnock//Microscopy and Microanalysis. -2000. -Vol. 6(2). -P. 129-136. - DOI: 10.1007/s100059910012
  • Gale, M.T. Replication technology for micro-optics and optical microsystems/M.T. Gale//Proceedings of SPIE. -2003. -Vol. 5177. -P. 113-120.
  • Lu, YT. Compact, reliable a symmetric optical configuration for cost-effective fabrication of multiplex dot matrix hologram in anti-counterfeiting application/YT Lu, S. Chi//Optik. -2003. -Vol. 114(4). -P. 161-167.
  • Van Renesse, R.L. Security aspects of commercially available dot matrix and image matrix origination systems/Rudolf L.van Renesse//SPIE International Conference on Optical Holography and Applications, 24-27 May 2004, Kiev, Ukraine.
  • Kley, E.-B. Continuous profile writing by electron and optical lithography/E.-B. Kley//Microelectronic Engineering. -1997. -Vol. 34, Issue 3-4. -P. 261-298.
  • Palevičius, A. Microstructure formation on the basis of computer generated hologram/A. Palevičius, G. Janušas, B. Narijauskaitė, R. Palevičius//Mechanika. -2011. -Vol. 17(3). -P. 334-337.
  • Girnyk, V.I. Multilevel computer-generated holograms for reconstructing 3D-images in combined optical-digital security devices/V.I. Girnyk, S.O. Kostyukevych, P.Ye. Shepeliavyi, A.V. Kononov, I.S. Borisov//Semiconductor Physics, Quantum Electronics & Optoelectronics. -2002. -Vol. 5(1). -P. 106-114.
  • Dubonos, S.V. Proximity correction for 3D-structures/S.V. Dubonos, B.N. Gaifullin, H. Raith, A.A. Svintsov, S.I. Zaitsev//Microelectronic Engineering. -1995. -Vol. 27. -P. 195-198.
  • Aristov, V.V. Three-dimension design in electron beam lithography/V.V. Aristov, S.V. Dubonos, R.Ya. Dyachenko, B.N. Gaifullin, V.N. Matveev, H. Raith, A.A. Svintsov, S.I. Zaitsev//Journal of Vacuum Science & Technology B. -1995. -Vol. 13(6). -P. 2526-2528.
Еще
Статья научная
SciUp 2024 © 2024 ©