Интерференционно - литографический синтез трехмерных фотонных кристаллов с использованием излучения, слабо поглощаемого фоторезистом
Автор: Микляев Юрий Владимирович, Карпеев Сергей Владимирович, Дьяченко Павел Николаевич, Павельев Владимир Сергеевич, Полетаев Сергей Дмитриевич
Журнал: Компьютерная оптика @computer-optics
Рубрика: Дифракционная оптика, оптические технологии
Статья в выпуске: 4 т.32, 2008 года.
Бесплатный доступ
Реализован синтез полимерных матриц фотонных кристаллов методом интерференционной литографии. Запись решетки осуществлялась излучением гелий-кадмиевого лазера на длине волны 442нм в фоторезисте SU-8. Использование длины волны, соответствующей области слабого поглощения фоторезиста, позволило обеспечить однородность структуры по глубине фотоматериала. Определены оптимальные параметры экспозиции и обработки фоторезиста для получения пористой структуры, соответствующей орторомбической решетке.
Фотонный кристалл, интерференционная литография, гелий-кадмиевый лазер, фоторезист su-8
Короткий адрес: https://sciup.org/14058843
IDR: 14058843
