Моделирование процесса роста нанопленок методом химического осаждения из газовой фазы

Автор: Болдырев Юрий Яковлевич, Замотин Кирилл Юрьевич, Петухов Евгений Павлович

Журнал: Вестник Южно-Уральского государственного университета. Серия: Вычислительная математика и информатика @vestnik-susu-cmi

Статья в выпуске: 46  (305), 2012 года.

Бесплатный доступ

Большинство задач, которые связаны со многими аспектами развития нанотехнологий, по своей природе существенно междисциплинарны. Одним из наиболее характерных примеров этого является проблематика применения газофазного синтеза в нанотехнологиях. По своему существу такие технологии являются реализацией процессов химического осаждения вещества из газообразного состояния, подаваемого в реакционную зону, в твердое состояние. Междисциплинарность рассматриваемых в газофазном синтезе процессов порождает серьезные трудности при их изучении. При этом в рамках традиционного физического эксперимента не удается получить хорошего результата, так как такой эксперимент: не является наглядным, не позволяет изучать зависимость конечного материала от различных физических параметров системы, занимает много времени, дорог. Поэтому естественно искать пути решения задач на базе математического моделирования, которое лежит в основе виртуального эксперимента. В основе работы — разработка и апробация технологий математического моделирования с использованием высокопроизводительных вычислений в области процессов газофазного синтеза наноразмерных структур и наноматериалов с целью изучения и обеспечения визуализации протекающих физико-химических процессов.

Еще

Наноиндустрия, газофазный синтез наноматериалов, математическое моделирование, газовая динамика, физико-химические процессы

Короткий адрес: https://sciup.org/147160457

IDR: 147160457

Список литературы Моделирование процесса роста нанопленок методом химического осаждения из газовой фазы

  • Jones, A.C. Chemical Vapour Deposition. Precursors, Processes and Application/A.C. Jones, M.L. Hitchman. -London: RSC Publishing, 2009. -582 с.
  • Протопопова, В.С. Химическое осаждение из газовой фазы слоев Ni из бис-(этилциклопентадиенил) никеля/В.С. Протопопова, С.Е. Александров//Научно-технические ведомости СПбГПУ, серия «Физико-математические науки» № 126. -СПб.: Изд-во Политехн. ун-та, 2011. -с. 145-150.
  • Уваров, А.А. Химическое осаждение из газовой фазы диэлектрических пленок политетрафторэтилена/А.А. Уваров, С.Е. Александров.//Научно-технические ведомости СПбГПУ, серия «Физико-математические науки», № 126. -СПб.: Изд-во Политехн. ун-та, 2011. -с. 141-145.
  • Александров, С.Е. Технология материалов электронной техники. Процессы химического осаждения из газовой фазы: учеб. пособие. -СПб.: Изд-во Политехн. ун-та, 2005. -92 с.
  • Hitchman, M.L. Chemical Vapor Deposition, Principals and Application/M.L. Hitchman, K.F. Jencen -London: Academic Press, 1993. -678 p.
  • Лойцянский, Л.Г. Механика жидкости и газа: учеб. для вузов./Л.Г. Лойцянский. Изд. 6-е, перераб. и доп. -М.: Наука, 1987. -600 с.
  • FLUENT 6.3 User’s Guide URL: http://hpce.iitm.ac.in/website/Manuals/Fluent_6.3/(дата обращения: 12.03.2012)
  • Mazumder, S. The Importance of Predicting Rate-limited Growth for Accurate Modeling of Commercial MOCVD Reactors/S. Mazumder, S. Lowry//J. Crystal Growth, 2001. -Vol. 224. № 1-2. -P. 165-174
  • CHEMKIN/CHEMKIN-PRO Input Manual (August 2010)
  • Chase, M.W. NIST-JANAF Thermochemical Tables, 4th Edition. Monograph No. 9/M.W. Chase -National Institute of Standards and Technology, 1998. -1952 p.
  • Иванов, Д.И. Визуализация результатов моделирования процессов газофазного синтеза наноразмерных структур при сетевом доступе к кластерному вычислителю/Д.И. Иванов, Н.В. Захаревич, И.А. Цикин. -СПб.: Изд-во Политехн. ун-та, Научно-технические ведомости СПбГУ (в печати).
  • Laidler, K.J. Chemical Kinetics, Third Edition./K.J. Laidler -Benjamin-Cummings, 1997.
Еще
Статья научная